Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://dspace.tneu.edu.ua/handle/316497/33239
Назва: Multi-Agent Parallel Implementation of Photomask Simulation in Photolithography
Автори: Avakaw, Syarhei M.
Doudkin, Alexander A.
Inyutin, Alexander V.
Otwagin, Aleksey V.
Rusetsky, Vladislav A.
Ключові слова: Aerial Image Simulation
Multi-agent
Integrated Circuit
Photolithography
Parallel Algorithm
Дата публікації: 2012
Видавництво: ТНЕУ
Бібліографічний опис: Avakaw, S. M. Multi-Agent Parallel Implementation of Photomask Simulation in Photolithography [Text] / Syarhei M. Avakaw, Alexander A. Doudkin, Alexander V. Inyutin, Aleksey V. Otwagin, Vladislav A. Rusetsky // Computing = Комп’ютинг. - 2012. - Vol. 11, is. 1. - P. 45-54.
Короткий огляд (реферат): A framework for paralleling aerial image simulation in photolithography is proposed. Initial data for the simulation representing photomask are considered as a data stream that is processed by a multi-agent computing system. A parallel image processing is based on a graph model of a parallel algorithm. The algorithm is constructed from individual computing operations in a special visual editor. Then the visual representation is converted into XML, which is interpreted by the multi-agent system based on MPI. The system performs run-time dynamic optimization of calculations using an algorithm of virtual associative network. The proposed framework gives a possibility to design and analyze parallel algorithms and to adapt them to architecture of the computing cluster.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://dspace.tneu.edu.ua/handle/316497/33239
Розташовується у зібраннях:Комп'ютинг 2012 рік. Том 11. Випуск 1

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Avakaw.pdf719.88 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.